[发明专利]元件芯片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710053291.4 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN107039343B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 针贝笃史;置田尚吾;松原功幸;广岛满;奥根充弘 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;B28D5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李国华
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种元件芯片的制造方法及元件芯片,能够抑制安装过程中的导电性材料的爬升。在分割具有多个元件区域的基板来制造多个元件芯片的元件芯片的制造方法中使用的等离子体处理工序中,通过将基板暴露于第一等离子体,从而将基板分割成元件芯片(10)。而且,形成为具备第一面(10a)、第二面(10b)及连结第一面(10a)和第二面(10b)的侧面(10c)的元件芯片(10)彼此隔开间隔地保持在载体(4)上的状态。通过将这些元件芯片(10)暴露于以氟化碳和氦气的混合气体为原料气体的第二等离子体中,从而仅在侧面(10c)形成覆盖元件芯片(10)的保护膜(12),抑制安装过程中的导电性材料向侧面(10c)的爬升。
搜索关键词: 元件 芯片 制造 方法
【主权项】:
一种元件芯片的制造方法,将具备第一面和所述第一面的相反侧的第二面的基板在分割区域进行分割来制造多个元件芯片,所述第一面具有用所述分割区域划分的多个元件区域,所述元件芯片的制造方法包括:准备工序,准备所述基板,所述基板的所述第一面侧被载体支承,并且所述基板形成有耐蚀刻层,使得覆盖与所述元件区域对置的所述第二面的区域且使与所述分割区域对置的所述第二面的区域露出;和等离子体处理工序,在所述准备工序之后,对被所述载体支承的所述基板实施等离子体处理,所述等离子体处理工序包括:分割工序,将所述第二面暴露于第一等离子体,从而将未被所述耐蚀刻层覆盖的区域的所述基板在该基板的深度方向上蚀刻至到达所述第一面而将所述基板分割为元件芯片,并成为具备所述第一面、所述第二面以及连结所述第一面和所述第二面的侧面的元件芯片彼此隔开间隔保持在所述载体上的状态;和保护膜形成工序,在所述分割工序之后,在彼此隔开间隔保持在所述载体上的状态下,将所述元件芯片暴露于供给保护膜形成用气体的同时而产生的第二等离子体,从而仅在所述元件芯片的所述侧面形成保护膜。
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