[发明专利]一种基板及其制备方法、成膜设备有效
申请号: | 201710056357.5 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN106547149B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 张东徽;倪欢;赵婷婷;马小叶;马睿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开了一种基板及其制备方法、成膜设备。所述基板包括取向膜,所述取向膜包括多条第一取向图形,通过所述第一取向图形来形成高度差,以形成取向沟槽,通过控制所述高度差能够提供足够大的锚定能,保证对液晶的取向度,并且完全杜绝机械摩擦存在的静电、颗粒污染等不良,提高产品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 及其 制备 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种基板,包括基底和设置在所述基底的表面上的取向膜,其特征在于,所述取向膜包括多条第一取向图形,且在垂直于所述基底的方向上,每一第一取向图形相对所述基底的表面的高度与位于该第一取向图形周边的膜层图形相对所述基底的表面的高度的差值位于预设的数值范围,以形成用于取向的取向沟槽;所述取向膜还包括填充在相邻的两条第一取向图形之间的第二取向图形;在垂直于所述基底的方向上,所述第一取向图形相对所述基底的表面的高度与所述第二取向图形相对所述基底的表面的高度的差值位于所述预设的数值范围。
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