[发明专利]图像处理装置及方法、拍摄系统有效

专利信息
申请号: 201710057777.5 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN107135337B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 登一生;佐藤智;吾妻健夫;安藤贵真;是永继博;藤井俊哉 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 张轶楠;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供拍摄装置及方法、图像处理装置及方法、拍摄系统。拍摄装置具备:拍摄元件(13);用于将分别来自互不相同的视点的输入图像成像在拍摄元件(13)上的第1成像光学系统(11L)和第2成像光学系统(11R);以及对通过第1成像光学系统(11L)和第2成像光学系统(11R)分别成像的输入图像进行调制的第1调制掩模(12L)和第2调制掩模(12R),拍摄元件(13)拍摄由通过第1成像光学系统(11L)和第2成像光学系统(11R)来成像、并且通过第1调制掩模(12L)和第2调制掩模(12R)来调制从而光学重叠的两个输入图像而成的重叠图像,第1调制掩模(12L)和第2调制掩模(12R)各自的光透射率分布互不相同。
搜索关键词: 图像 处理 装置 方法 拍摄 系统
【主权项】:
一种拍摄装置,具备:拍摄元件;两个以上的成像光学系统,其用于将分别来自互不相同的视点的输入图像在所述拍摄元件上成像;以及两个以上的调制掩模,其对通过所述两个以上的成像光学系统的各系统成像的所述输入图像进行调制,所述拍摄元件对重叠图像进行拍摄,所述重叠图像由通过所述两个以上的成像光学系统成像、并且通过所述两个以上的调制掩模调制而在光学上重叠的两个以上的所述输入图像构成,所述两个以上的调制掩模各自的光透射率分布互不相同。
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