[发明专利]x射线源、高电压发生器、电子束枪、旋转靶组件、旋转靶以及旋转真空密封件

摘要

本发明涉及x射线源、高电压发生器、电子束枪、旋转靶组件、旋转靶以及旋转真空密封件。具体地，一种用于旋转轴的旋转真空密封件，所述密封件包括孔，所述孔用于容纳所述轴并且在高压强端部和低压强端部中的每一个端部处具有端子孔口；腔室，所述腔室在介于所述高压强端部与所述低压强端部之间的位置处围绕所述孔并且周向地邻接所述孔；以及流动路径，所述流动路径从所述腔室延伸至适合于连接至真空泵的端口，其中，所述孔和所述轴的尺寸被设定为使得在所述腔室中维持的1毫巴的压强以及在所述低压强端部处维持的10‑5毫巴的压强导致所述腔室与所述低压强端部之间的氮的质量流率小于10‑3毫巴l/s。

主权项

一种用于旋转轴的旋转真空密封件，所述密封件包括：孔，所述孔用于容纳所述轴并且在高压强端部和低压强端部中的每一个端部处具有端子孔口；腔室，所述腔室在介于所述高压强端部与所述低压强端部之间的位置处围绕所述孔并且周向地邻接所述孔；以及流动路径，所述流动路径从所述腔室延伸至适合于连接至真空泵的端口，其中，所述孔和所述轴的尺寸被设定为：使得在所述腔室中维持的1毫巴的压强以及在所述低压强端部处维持的10‑5毫巴的压强导致所述腔室与所述低压强端部之间的氮的质量流率小于10‑3毫巴l/s。