[发明专利]氧化还原反应检测装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201710058375.7 | 申请日： | 2017-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN108344790B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 蔡明志;何羽轩;朱彦瑞;谢明宏 | 申请（专利权）人： | 华邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/416 | 分类号： | G01N27/416;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马雯雯;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出一种氧化还原反应检测装置及其制造方法。氧化还原反应检测装置包括第一电极、至少一检测结构以及第二电极。第一电极位于衬底上。至少一检测结构位于第一电极与衬底上。至少一检测结构包括金属纳米线层与金属氧化物层。金属纳米线层配置在第一电极与衬底上。金属氧化物层包覆金属纳米线层。第二电极位于至少一检测结构上。通过检测装置中的金属氧化物层以及金属纳米线层均参与检测氧化还原反应，以提高检测装置的检测灵敏度与检测范围。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 还原 反应 检测 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化还原反应检测装置，其特征在于，包括：第一电极，位于衬底上；至少一检测结构，位于所述第一电极与所述衬底上，所述至少一检测结构包括：金属纳米线层，配置在所述第一电极与所述衬底上；以及金属氧化物层，包覆所述金属纳米线层；以及第二电极，位于所述至少一检测结构上。
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