[发明专利]显示基板的制作方法、显示基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201710060160.9 申请日: 2017-01-24
公开(公告)号: CN106547143B 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 刘晋杰;隆清德;柳星;杨堂 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置,该显示基板的制作方法包括通过掩模板对光刻胶层进行第一次曝光;将掩模板沿行方向移动至少一个第一节距和/或沿列方向移动至少一个第二节距后,通过掩模板对光刻胶层进行第二次曝光;对光刻胶层进行显影,以形成具有多个开口结构的图案。利用该显示基板的制作方法可以制作黑矩阵,即使制作黑矩阵的掩模板有污染或轻微损伤,也不会产生固定位置缺失的不良现象,可以很好的解决黑矩阵在像素区或边框区产生的漏光或亮点问题,从而有效减少了嫁动损失并提升了加工过程中黑矩阵的良率。
搜索关键词: 显示 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上涂敷光刻胶层;通过掩模板对所述光刻胶层进行第一次曝光,其中,所述掩模板包括透光部以及多个遮光部,所述多个遮光部沿行方向和列方向排列成阵列,所述遮光部在所述行方向上排列的节距为第一节距,所述遮光部在所述列方向上排列的节距为第二节距;对所述光刻胶层进行显影,以形成具有多个开口结构的图案;其特征在于,对所述光刻胶层进行显影前还包括:将所述掩模板沿所述行方向移动至少一个所述第一节距和/或沿所述列方向移动至少一个所述第二节距后,通过所述掩模板对所述光刻胶层进行第二次曝光。
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