[发明专利]一种曝光用投影物镜以及光刻系统有效
| 申请号： | 201710060955.X | 申请日： | 2017-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108345079B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 韦婧宇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光用投影物镜以及使用这种曝光用投影物镜的光刻系统，从上至下依次包括若干个物镜腔室，在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置，在底层的物镜腔室设置有出气孔，气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流出。本发明使得外部气体从该气体导流装置进入投影物镜的物镜腔室内，这样改变了气体的流动方向，从而改变了气体流动时受到的压力，避免了流动死角的产生，从而可以减小投影物镜镜片被污染的几率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 投影 物镜 以及 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种曝光用投影物镜，从上至下依次包括若干个物镜腔室，其特征在于，在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置，在底层的物镜腔室设置有出气孔，气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流出。
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