[发明专利]剥离性优异的脱模膜在审
| 申请号： | 201710062191.8 | 申请日： | 2017-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN107225831A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 宫坂洋之;林益史 | 申请（专利权）人： | 藤森工业株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/06;B32B33/00;B32B3/08;B32B7/06;C09D183/04;C09D7/12;C08J7/04;C08L67/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 张晶,谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种剥离性优异的脱模膜，其剥离力小，在贴合于粘着剂层的状态下，剥离力也难以经时增大，向粘着剂层的硅酮成分的转移少，因此贴合的粘着剂层的粘着力不降低，且在脱模膜的使用时、及将脱模膜从被粘物上剥离时的带电量少。该脱模膜(5)具有该脱模剂层在基材膜(1)的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层(2)、含有微粒(3)的第二脱模剂层(4)的两层结构的脱模剂层，其特征在于，所述第一脱模剂层(2)与所述第二脱模剂层(4)的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层(4)的表面到微粒(3)的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且两个脱模剂层(2)、(4)包含硅酮类脱模剂。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 优异 脱模 | ||
【主权项】：
一种脱模膜，其具有在基材膜的至少一个面上依次层叠有含有抗静电剂且不含有微粒的第一脱模剂层、含有由无机微粒及/或聚合物微粒构成的微粒的第二脱模剂层的两层结构的脱模剂层，所述脱模膜的特征在于，所述第一脱模剂层与所述第二脱模剂层的总厚度为0.4～2.0μm，从所述第二脱模剂层的表面到所述微粒的顶点的突出高度为所述总厚度以上，且所述第一脱模剂层及所述第二脱模剂层包含硅酮类脱模剂。
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