[发明专利]包含倒四棱锥绒面结构的单晶硅片及其应用有效
申请号: | 201710063021.1 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN106784063B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 陈伟;王燕;赵燕;陈全胜;吴俊桃;刘尧平;徐鑫;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 北京普扬科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18;C30B33/10 |
代理公司: | 北京鼎承知识产权代理有限公司 11551 | 代理人: | 张波涛;管莹 |
地址: | 100190 北京市平谷区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及单晶硅片的制绒结构及其应用,尤其涉及一种包含倒四棱锥绒面结构的单晶硅片及其在太阳能电池中的应用,属于太阳能电池技术领域。所述倒四棱锥组包括一种或多种高与底边边长的比为0.7‑6∶1的倒四棱锥。本发明还进一步地提供了所述单晶硅片的制绒方法。 | ||
搜索关键词: | 单晶硅片 倒四棱锥 绒面结构 应用 太阳能电池技术 太阳能电池 底边边长 制绒结构 制绒 | ||
【主权项】:
1.一种包含倒四棱锥绒面结构的单晶硅片,所述硅片表面随机分布有倒四棱锥组,所述倒四棱锥组包括一种或多种高与底边边长的比为1.2‑4.4∶1的倒四棱锥;所述倒四棱锥选自下列倒四棱锥中的一种或多种:1)一种高与底边边长的比为1.2‑1.5∶1之间的倒四棱锥;2)和/或一种高与底边边长的比为1.9‑2.3∶1之间的倒四棱锥;3)和/或一种高与底边边长的比为2.5‑3.1∶1之间的倒四棱锥;4)和/或一种高与底边边长的比为3.2‑3.7∶1之间的倒四棱锥;5)和/或一种高与底边边长的比为4.0‑4.4∶1之间的倒四棱锥;所述包含倒四棱锥绒面结构的单晶硅片的制备方法,其包括:1)将单晶硅片放置于酸性制绒液中,在室温下进行蚀刻,清洗去除金属离子;2)将清洗后具有倒四棱锥绒面结构的单晶硅片置于碱液中进行结构修饰,清洗即得;所述酸性制绒液中包含0.5‑10mmol/L的银离子、10‑200mmol/L的铜离子、1‑8mol/L的HF和0.1‑8mol/L的H2O2;其中,银离子和铜离子的摩尔比为1∶5‑100。
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