[发明专利]包含倒四棱锥绒面结构的多晶硅片及其应用有效
申请号: | 201710063022.6 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN106653890B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 陈全胜;陈伟;吴俊桃;赵燕;王燕;刘尧平;徐鑫;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 北京普扬科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 北京鼎承知识产权代理有限公司 11551 | 代理人: | 张波涛;管莹 |
地址: | 100190 北京市平谷区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及多晶硅片的制绒结构及其应用,尤其涉及一种包含倒四棱锥绒面结构的多晶硅片及其在太阳能电池中的应用,属于太阳能电池技术领域。所述倒四棱锥组包括一种或多种高与底边边长的比为0.7‑6∶1的倒四棱锥;所述倒四棱锥结构的开口方向与其对应的晶粒的取向一致。本发明还进一步地提供了所述多晶硅片的制绒方法。 | ||
搜索关键词: | 倒四棱锥 多晶硅片 绒面结构 太阳能电池技术 应用 太阳能电池 晶粒 底边边长 开口方向 取向一致 制绒结构 制绒 | ||
【主权项】:
1.一种包含倒四棱锥绒面结构的多晶硅片,所述硅片表面随机分布有倒四棱锥组,其特征在于,所述倒四棱锥组包括一种或多种高与底边边长的比为1.2-4.4∶1的倒四棱锥;所述倒四棱锥结构的开口方向与其对应的晶粒的取向一致;所述倒四棱锥选自下列倒四棱锥中的一种或多种:1)一种高与底边边长的比为1.2-1.5∶1之间的倒四棱锥;2)和/或一种高与底边边长的比为1.9-2.3∶1之间的倒四棱锥;3)和/或一种高与底边边长的比为2.5-3.1∶1之间的倒四棱锥;4)和/或一种高与底边边长的比为3.2-3.7∶1之间的倒四棱锥;5)和/或一种高与底边边长的比为4.0-4.4∶1之间的倒四棱锥;所述包含倒四棱锥绒面结构的多晶硅片的制备方法,其包括:1)将多晶硅片放置于酸性制绒液中,在20℃~35℃下进行蚀刻1~10分钟,清洗去除硅片表面的金属离子;2)将清洗后具有倒四棱锥绒面结构的多晶硅片置于碱液中,在20℃~30℃条件下进行结构修饰5-90s,清洗即得;所述酸性制绒液中包含0.5-10mmol/L的银离子、10-200mmol/L的铜离子、1-8mol/L的HF和0.1-8mol/L的H2 O2 ;其中,银离子和铜离子的摩尔比为1∶5-100。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京普扬科技有限公司,未经北京普扬科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710063022.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于刻蚀太阳能电池硅片表面的制绒液及其应用
- 下一篇:一种高效散热装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的