[发明专利]液晶面板及其光阻图案形成方法在审
| 申请号： | 201710064867.7 | 申请日： | 2017-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN106597732A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 龚成波 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种液晶面板及其光阻图案形成方法，该方法包括在基板上涂布光阻材料层；在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。相对于现有技术，本发明提供的液晶面板及其光阻图案形成方法，通过通过将面板上光阻材料层不同位置对应的遮挡层图案线宽设置为不同，具体为遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽，以克服现有技术中由于整个基板上光阻材料层不同位置的溶剂残留量不同，还利用相同线宽的遮挡层进行光照而产生的最终形成光阻图案线宽存在差异的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶面板 及其 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种用于液晶面板上的光阻图案形成方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上涂布光阻材料层；在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。
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