[发明专利]一种贵金属含量高的粗铜电解精炼系统及方法有效
| 申请号： | 201710067680.2 | 申请日： | 2017-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN106868543B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 包小玲;宋纲峰;王德雨;刘学山 | 申请（专利权）人： | 包小玲 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12;C25C1/20;C25C7/02;C25C7/06 |
| 代理公司： | 苏州中合知识产权代理事务所(普通合伙) 32266 | 代理人： | 马丽丽 |
| 地址： | 010020 内蒙古自治区呼和浩*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种贵金属含量高的粗铜电解精炼系统及方法，该系统包括用于容纳工业电解液的电解槽、电解液低位槽、至少一个阳极，由待精炼的粗铜材料形成，并且被定位成用于与所述电解槽内的工业电解液接触，所述的阳极周围套有阳极袋，阳极袋将阳极包裹在内、至少一个阴极，其被定位成用于与所述电解槽内的工业电解液接触；阳极与阴极相对设置，进液口的开口方向和溢流口的开口方向与阴极和阳极的固定方向平行。本系统取消了普通铜电解工艺的高位槽，加大了电解液在槽中的循环速度，应用该系统的缩短贵金属回收的生产经营周期，减少贵金属在高速铜电解生产过程中的损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 贵金属 含量 电解 精炼 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种贵金属含量高的粗铜电解精炼系统，其特征在于，包括：用于容纳工业电解液的电解槽，电解槽下方设有进液口，电解槽上方设有溢流口，进液口和溢流口开设在所述电解槽相对的两个侧壁上，工业电解液由进液口流入电解槽，并由溢流口流出电解槽；电解液低位槽，设于电解槽下方并分别与电解槽的进液口和溢流口连通，在电解液低位槽与电解槽的进液口间设有循环泵，循环泵用于将电解液低位槽内的电解液直接泵入电解槽内；至少一个阳极，由待精炼的粗铜材料形成，并且被定位成用于与所述电解槽内的工业电解液接触，所述的阳极周围套有阳极袋，阳极袋将阳极包裹在内；至少一个阴极，其被定位成用于与所述电解槽内的工业电解液接触；阳极与阴极相对设置，进液口的开口方向和溢流口的开口方向与阴极和阳极的固定方向平行。
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