[发明专利]一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法在审
申请号: | 201710070811.2 | 申请日: | 2017-02-09 |
公开(公告)号: | CN106826409A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 朱杰;姬梦;王占山 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B13/00;C09G1/02;C09G1/18;B08B3/12 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 翁惠瑜 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,包括以下步骤:对氟化钙单晶进行研磨处理;利用第一抛光液对研磨后的氟化钙单晶进行抛光,并在抛光过程中以设定间隔时间对氟化钙单晶进行超声波清洗;第一抛光液为由掺有纳米级铝盐、纳米级氧化铬和纳米级氧化铁的纳米级二氧化硅抛光粉制成的碱性抛光液;利用第二抛光液在光学沥青模上进行抛光。本发明采用在抛光液中加入铝盐等化合物的化学机械抛光方法对氟化钙单晶进行抛光,少量铝盐和氧化铬等在碱性条件下与氟化钙单晶会产生络合物,因而加速对氟化钙单晶的抛光进程,从而进一步去除氟化钙单晶表面损伤和亚表面损伤,获得较光滑的晶体表面,使得氟化钙单晶的加工效率高、产品质量好。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 络合物 氟化钙 抛光 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:1)对氟化钙单晶进行研磨处理;2)利用第一抛光液对研磨后的氟化钙单晶进行抛光,并在抛光过程中以设定间隔时间对氟化钙单晶进行超声波清洗;所述第一抛光液为由掺有纳米级铝盐、纳米级氧化铬和纳米级氧化铁的纳米级二氧化硅抛光粉制成的碱性抛光液;3)利用第二抛光液在光学沥青模上对氟化钙单晶进行抛光,所述第二抛光液为无水乙醇和乙醚混合液。
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