[发明专利]光酸产生剂及包含该光酸产生剂的光刻胶

摘要

具有式(Ⅰ)所示结构的光酸产生剂化合物[A‑(CHR1)p]k–(L)‑(CH2)m‑(C(R2)2)n‑SO3‑Z+(I)其中A是任选地包含O、S、N、F或包含上述至少一种的组合的取代或未取代的单环、多环或稠合多环的C5或者更大的脂环族基团，R1是H、单键、或取代或未取代的C1‑30烷基，其中当R1是单键时，R1是以共价键的方式与A的一个碳原子键合，每个R2独立地是H、F、或C1‑4氟烷基，其中至少一个R2不是氢，L是包括磺酸盐/酯基团、磺酰胺基团、或C1‑30的含有磺酸盐/酯或磺酰胺基团的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p是0到10的整数，k是1或2，m是0或更大的整数，n是1或更大的整数。本发明还公开了光酸产生剂的前体化合物、包含所述光酸产生剂的光刻胶组合物，和涂覆有所述光刻胶组合物的基材。

主权项

一种式(Ⅱa)或(Ⅱb)所示的化合物：A‑(CHR1)p–O‑SO2‑(CH2)m‑(C(R2)2)n‑SO3‑Z+  (IIa)A‑(CHR1)p–SO2‑O‑(CH2)m‑(C(R2)2)n‑SO3‑Z+  (IIb)其中A是1‑或2‑取代的羟基金刚烷基，R1是H、或取代或未取代的C1‑30的烷基，每个R2是F，Z+是式(XIII)所示的阳离子：其中R4和R5独立地是取代或未取代的C1‑20烷基，C1‑20氟烷基，C3‑20环烷基、C3‑20氟环烷基、C2‑20烯基、C2‑20氟烯基、C6‑20芳基、C6‑20氟芳基、C5‑20杂芳基、C7‑20芳烷基、C7‑20氟芳烷基、C6‑20杂芳烷基，其中R4和R5是独立的或者通过单键连接的，Ar是C5‑30含芳族基的基团，其中“取代”表示包括选自以下的取代基：F、Cl、Br、I、羟基、氨基、硫醇、羧基、羧酸盐/酯、酰胺、腈、硫醇、硫化物、二硫化物、硝基、C1‑10烷基、C1‑10烷氧基、C6‑10芳基、C6‑10芳氧基、C7‑10烷基芳基、C7‑10烷基芳氧基、以及包括上述至少一种的组合，和p是0或1的整数，m是从1到4的整数，n是从1到4的整数。