[发明专利]探测范围可调的IV族红外光电探测器及其制备方法有效
申请号: | 201710074466.X | 申请日: | 2017-02-10 |
公开(公告)号: | CN106784075B | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 胡辉勇;吴继宝;舒斌;李露;刘伟;范林西;陶春阳;王斌;张鹤鸣;宋建军 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳精智联合知识产权代理有限公司44393 | 代理人: | 王海栋 |
地址: | 710000 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种探测范围可调的IV族红外光电探测器及其制备方法。所述制备方法包括步骤(a)选取N型Ge衬底;(b)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型Ge衬底上形成N型GeSiSn缓冲层;(c)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型GeSiSn缓冲层上形成所述Ge/GeSiSn量子阱结构;(d)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述Ge/GeSiSn量子阱结构上形成P型Ge接触层;(e)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述P型Ge接触层上形成SiO2层;(f)金属化并光刻引线形成所述红外光电探测器。本发明实施例制备并提供探测范围可调的IV族红外光电探测器。 | ||
搜索关键词: | 探测 范围 可调 iv 红外 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种探测范围可调的IV族红外光电探测器的制备方法,其特征在于,所述红外光电探测器包括Ge/GeSiSn量子阱结构,所述制备方法包括步骤:(a)选取N型Ge衬底;(b)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型Ge衬底上形成N型GeSiSn缓冲层;(c)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型GeSiSn缓冲层上形成所述Ge/GeSiSn量子阱结构;(d)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述Ge/GeSiSn量子阱结构上形成P型Ge接触层;(e)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述P型Ge接触层上形成氧化层;(f)金属化并光刻引线形成所述红外光电探测器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的