[发明专利]探测范围可调的IV族红外光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710074466.X 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN106784075B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 胡辉勇;吴继宝;舒斌;李露;刘伟;范林西;陶春阳;王斌;张鹤鸣;宋建军 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 深圳精智联合知识产权代理有限公司44393 代理人: 王海栋
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种探测范围可调的IV族红外光电探测器及其制备方法。所述制备方法包括步骤(a)选取N型Ge衬底;(b)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型Ge衬底上形成N型GeSiSn缓冲层;(c)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型GeSiSn缓冲层上形成所述Ge/GeSiSn量子阱结构;(d)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述Ge/GeSiSn量子阱结构上形成P型Ge接触层;(e)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述P型Ge接触层上形成SiO2层;(f)金属化并光刻引线形成所述红外光电探测器。本发明实施例制备并提供探测范围可调的IV族红外光电探测器。
搜索关键词: 探测 范围 可调 iv 红外 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种探测范围可调的IV族红外光电探测器的制备方法,其特征在于,所述红外光电探测器包括Ge/GeSiSn量子阱结构,所述制备方法包括步骤:(a)选取N型Ge衬底;(b)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型Ge衬底上形成N型GeSiSn缓冲层;(c)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述N型GeSiSn缓冲层上形成所述Ge/GeSiSn量子阱结构;(d)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述Ge/GeSiSn量子阱结构上形成P型Ge接触层;(e)在280℃~300℃,利用UHV‑CVD工艺,在所述P型Ge接触层上形成氧化层;(f)金属化并光刻引线形成所述红外光电探测器。
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