[发明专利]等离子体源的室构件和有移动衬底C形环的升降销的基座

摘要

本发明涉及等离子体源的室构件和有移动衬底C形环的升降销的基座。提供了一种等离子体源的室构件，其包括侧壁、过渡构件、顶壁和注射器连接构件。所述侧壁是圆筒形的并且围绕衬底处理室的上部区域。所述过渡构件连接到所述侧壁。所述顶壁连接到所述过渡构件。所述注射器连接构件连接到所述顶壁，定位成竖直地高于所述侧壁，并且被构造成连接到气体注射器。气体经由所述气体注射器穿过所述注射器连接构件并进入所述衬底处理室的所述上部区域。所述室构件的中心高度与下内径的比率为0.25‑0.5和/或所述室构件的中心高度与外部高度的比率为0.4‑0.85。

主权项

一种等离子体源的室构件，其包括：围绕衬底处理室的上部区域的侧壁，其中所述侧壁为圆筒形；连接到所述侧壁的过渡构件；连接到所述过渡构件的顶壁；以及注射器连接构件，其连接到所述顶壁，定位成竖直地高于所述侧壁，并且被构造成连接到气体注射器，其中气体经由所述气体注射器穿过所述注射器连接构件并进入所述衬底处理室的所述上部区域，其中符合以下项中的至少一个：所述室构件的中心高度与下内径的比率为0.25‑0.5，或者所述室构件的中心高度与外部高度的比率为0.4‑0.85。