[发明专利]多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用有效
| 申请号： | 201710078385.7 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN106833008B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 许辉;张静;韩春苗 | 申请（专利权）人： | 黑龙江大学 |
| 主分类号： | C09B57/00 | 分类号： | C09B57/00;C09K11/06;H01L51/54;H01L51/50 |
| 代理公司： | 哈尔滨市文洋专利代理事务所(普通合伙) 23210 | 代理人： | 何强 |
| 地址： | 150080 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： |
多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用，本发明涉及一类多齿膦配位银配合物双发射染料、合成方法及其应用。本发明的是为了解决前存在的磷光和热激发延迟荧光染料激子累积所导致的猝灭效应，导致器件性能和稳定性差的技术问题，该染料以多齿膦配体和AgX配位构成，方法如下：将多齿膦、AgX和DCM混合，在40℃反应1小时后，旋干，溶于DCM，冰水浴下加入H |
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| 搜索关键词： | 多齿膦配位银 配合 发射 染料 合成 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
多齿膦配位银配合物双发射染料，其特征在于该染料以多齿膦配体和AgX配位构成，分子结构通式如下：所述多齿膦配体为DPPPPO、DPNAPO或DPAPO，其中X为Cl、Br或I。
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