[发明专利]一种阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201710078596.0 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN106842744B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 衣志光 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法，其中该阵列基板包括衬底基板、栅极层、栅极绝缘层、源漏极层、第一钝化层、色阻层与第二钝化层，其中，所述源漏极层对应上方设有钝化层过孔，所述钝化层过孔贯穿所述第二钝化层、所述色阻层与所述第一钝化层，其底部与所述源漏极层的表面接触，所述钝化层过孔的第一侧面与所述第二钝化层和所述第一钝化层相通，所述钝化层过孔的第二侧面与所述第二钝化层、所述色阻层和所述第一钝化层相通，所述色阻层内的气体从所述第二侧面上的所述色阻层的表面析出。本发明实现了在成盒制程前，将色阻层内的气体被全部排出的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，其包括：衬底基板；栅极层，设于所述衬底基板上；栅极绝缘层，设于所述衬底基板上，并覆盖所述栅极层；源漏极层，设于所述栅极绝缘层上；第一钝化层，其覆盖部分所述源漏极层及所述栅极绝缘层；色阻层，设于所述第一钝化层上；第二钝化层，设于所述色阻层上；其中，所述源漏极层对应上方设有钝化层过孔，所述钝化层过孔贯穿所述第二钝化层、所述色阻层与所述第一钝化层并延伸至所述源漏极层的表面，所述钝化层过孔的一侧裸露出所述色阻层以供色阻层内的气体逸出。
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