[发明专利]具有离子催化剂的衬底的无电金属镀覆的水平方法有效

专利信息
申请号: 201710081929.5 申请日: 2017-02-15
公开(公告)号: CN107130230B 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 刘锋;M·瑞兹尼克 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: C23C18/20 分类号: C23C18/20;C23C18/24;C23C18/30
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在离子催化剂下无电金属镀覆的水平方法已通过减少不希望有的起泡而改善镀覆性能。减少起泡防止催化剂浴损失离子催化剂并且防止抑制催化剂性能的浮渣形成。水平方法还抑制离子催化剂沉淀并且改善离子催化剂对衬底的粘着性。水平方法可用于镀覆不同类型衬底的通孔和通道。
搜索关键词: 具有 离子 催化剂 衬底 金属 镀覆 水平 方法
【主权项】:
1.一种无电镀覆衬底的水平方法,其包含:a)清洁和调节所述衬底;b)微蚀刻所述衬底;c)提供水性酸性预浸组合物,所述水性酸性组合物由羟基苯甲酸、二羟基苯甲酸、三羟基苯甲酸或它们的钠盐和任选地一种或多种缓冲剂组成;d)将所述水性酸性预浸组合物施用于所述衬底;e)将离子催化剂施用于所述衬底;f)将还原剂施用于具有所述离子催化剂的所述衬底;和g)将无电金属镀覆浴施用于具有所述催化剂的所述衬底以便金属镀覆所述衬底。
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