[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 201710082086.0 | 申请日： | 2017-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN106842817A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 胡少坚;戚继鸣;陈寿面 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;C25D9/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 王仙子 |
| 地址： | 201210 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶组合物及其制备方法，光刻胶组合物包括以下组份具有聚合活性和光学活性的碱溶性树脂；至少含有两个不饱和双键且具有光学活性的低聚物或单体；光敏剂；非离子型或阳离子型表面活性剂；热阻聚剂；助剂；溶剂。本发明提供的光刻胶组合物不采用有毒有害的有机溶剂，几乎没有有机溶剂挥发，属于绿色环保产品，不会造成环境污染问题。光刻胶组合物可采用电镀沉积的方法均匀沉积在导电基材表面，光刻胶薄膜厚度达到10‑100微米，光刻胶有效利用率达到90％以上，克服了现有技术中采用旋转涂胶工艺造成的光刻胶组合物利用率低、材料浪费严重以及有毒有害有机溶剂挥发造成的环境污染问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶组合物，其特征在于，包括以下组份：具有聚合活性和光学活性的碱溶性树脂；至少含有两个不饱和双键且具有光学活性的低聚物或单体；光敏剂；非离子型或阳离子型表面活性剂；热阻聚剂；助剂；溶剂。
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