[发明专利]一种低硼多晶硅及其制备方法在审
申请号: | 201710084961.9 | 申请日: | 2017-02-16 |
公开(公告)号: | CN106672976A | 公开(公告)日: | 2017-05-17 |
发明(设计)人: | 石兵兵;刘胜明 | 申请(专利权)人: | 石兵兵 |
主分类号: | C01B33/025 | 分类号: | C01B33/025;C01B33/037 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 刘书芝 |
地址: | 730500 甘肃省*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明提供一种低硼多晶硅及其制备方法,涉及冶金领域。低硼多晶硅由硼含量小于0.3ppm的碳原料和硼含量小于0.15ppm的二氧化硅原料按照质量比为1:1~3.5混合后冶炼制得。低硼多晶硅的制备方法包括:将硼含量小于0.3ppm的碳原料和硼含量小于0.15ppm的二氧化硅原料按照质量比为1:1~3.5混合后冶炼制得。低硼多晶硅由低硼碳原料和低硼二氧化硅原料制得,无需再次脱硼即满足太阳能级多晶硅的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种低硼多晶硅,其特征在于,由硼含量小于0.3ppm的碳原料和硼含量小于0.15ppm的二氧化硅原料按照质量比为1:1~3.5混合后在1500~2500℃的温度下冶炼制得。
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