[发明专利]中介层,以及包含中介层的半导体封装体及其制作方法有效
申请号: | 201710085776.1 | 申请日: | 2017-02-17 |
公开(公告)号: | CN108269784B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 施信益;管式凡;吴铁将 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538;H01L21/48;H01L23/64;H01L25/065 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王允方 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种中介层,以及包含中介层的半导体封装体及其制作方法,其中中介层包括第一重分布层、有机基板、电容、硬罩层、第一导电柱及第二重分布层。有机基板位于第一重分布层上。电容嵌设于有机基板中且包括第一电极层、第二电极层,以及位于第一电极层及第二电极层之间的电容介电层,第一电极层电性连接第一重分布层。硬罩层位于有机基板上。导电柱嵌设于有机基板及硬罩层中且电性连接第一重分布层。第二重分布层位于硬罩层上且电性连接第二电极层及导电柱。电容嵌设于有机基板中,而有益于微缩中介层的尺寸,有机基板则可降低制作中介层的成本,并且,硬罩层可避免中介层发生翘曲。 | ||
搜索关键词: | 中介 以及 包含 半导体 封装 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种中介层,其特征在于,包括:第一重分布层;有机基板,位于所述第一重分布层上;电容,嵌设于所述有机基板中,所述电容包括第一电极层、第二电极层,以及位于所述第一电极层及所述第二电极层之间的电容介电层,所述第一电极层电性连接所述第一重分布层;硬罩层,位于所述有机基板上;第一导电柱,嵌设于所述有机基板及所述硬罩层中,所述第一导电柱电性连接所述第一重分布层;以及第二重分布层,位于所述硬罩层上,所述第二重分布层电性连接所述第二电极层及所述第一导电柱。
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