[发明专利]用于分析微孔的光学器件有效
| 申请号： | 201710089718.6 | 申请日： | 2017-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN107101979B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | J·维佐雷克 | 申请（专利权）人： | 豪夫迈·罗氏有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G02B21/00 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在本发明的一个方面中，光学测量装置包括：限定样本平面的样本保持器，其中所述样本保持器被构造成布置样本载体，所述样本载体包括在所述样本平面中的测量位置阵列；照明单元，其被构造成照亮所述样本平面；检测器；和光学成像系统，其被构造成将包括所述测量位置阵列的样本平面成像到所述检测器上，所述光学成像系统包括两个以上曲面反射元件，所述两个以上曲面反射元件适于以在2:1与1:2之间的放大率将所述样本平面成像在所述检测器上，并且所述检测器被构造成一次性获取所述测量位置阵列中的所有测量位置的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 微孔 光学 器件 | ||
【主权项】：
一种光学测量装置(10)，包括：限定样本平面的样本保持器(1)，其中，所述样本保持器(1)被构造成布置样本载体，所述样本载体包括在所述样本平面中的测量位置阵列；照明单元(2a；2b)，其被构造成照亮所述样本平面；检测器(4)；光学成像系统(3)，其被构造成将包括所述测量位置阵列的样本平面成像到所述检测器(4)上，其中，所述光学成像系统(3)包括两个以上曲面反射元件(31；32)，所述两个以上曲面反射元件(31；32)适于以在2:1和1:2之间的放大率将所述样本平面成像到所述检测器(4)上，以及其中，所述检测器(4)被构造成一次获取所述测量位置阵列中所有测量位置的图像。
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