[发明专利]软件缺陷预测方法及装置有效
申请号: | 201710090097.3 | 申请日: | 2017-02-20 |
公开(公告)号: | CN106919505B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 高岩;杨春晖;李冬 | 申请(专利权)人: | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所 |
主分类号: | G06F11/36 | 分类号: | G06F11/36 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黄晓庆 |
地址: | 510610 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种软件缺陷预测方法及装置,对待预测软件的软件模块源代码进行静态度量,构建缺陷向量;将缺陷向量通过预设投影矩阵映射到几何空间中得到映射缺陷向量;预设投影矩阵为在训练获得经过训练的预测模型的过程中,使得样本向量集的样本缺陷子集之间的相对熵距离的几何均值最大的投影矩阵,样本缺陷子集包括有缺陷子集和无缺陷子集;将映射缺陷向量输入到经过训练的预测模型中,通过经过训练的预测模型,将映射缺陷向量与样本缺陷子集的马氏距离最小的样本缺陷子集所对应的类别,作为待预测软件对应的缺陷预测结果,如此,可以实现软件缺陷数据的优化去噪,保证了数据分布的合理性,从而,可以得到准确性更高的预测结果。 | ||
搜索关键词: | 软件 缺陷 预测 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种软件缺陷预测方法,其特征在于,包括:对待预测软件的软件模块源代码进行静态度量,构建缺陷向量;将所述缺陷向量通过预设投影矩阵映射到几何空间中得到映射缺陷向量;所述预设投影矩阵为在训练获得经过训练的预测模型的过程中,使得样本向量集的样本缺陷子集之间的相对熵距离的几何均值最大的投影矩阵,所述样本缺陷子集包括有缺陷子集和无缺陷子集;将所述映射缺陷向量输入到所述经过训练的预测模型中,通过所述经过训练的预测模型,将所述映射缺陷向量与所述样本缺陷子集的马氏距离最小的样本缺陷子集所对应的类别,作为所述待预测软件对应的缺陷预测结果;所述预设投影矩阵表示为:
其中,W*为预设投影矩阵,C为所述样本向量集的所述样本缺陷子集的个数;DW(pc1||pc2)为在几何空间下的两个所述样本缺陷子集之间的相对熵距离;qc,表示为样本缺陷子集{xci}的先验概率,c为c1、c2、m或n,c1、c2、m、n的取值范围为1至C;α为权重因子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子产品可靠性与环境试验研究所,未经中国电子产品可靠性与环境试验研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710090097.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。