[发明专利]一种自驱动阳极辅助栅横向绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201710091494.2 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN106941115B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 陈文锁;廖瑞金;蒲贤洁;曾正;邵伟华;李辉 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/45;H01L29/08
代理公司: 重庆大学专利中心 50201 代理人: 王翔
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种自驱动阳极辅助栅横向绝缘栅双极型晶体管;所述自驱动阳极辅助栅横向绝缘栅双极型晶体管以SOI为衬底,采用自驱动阳极辅助栅极的设计结构,在保证器件较小关断时间的前提下,可以消除器件导通时的负阻效应,提高器件的工作稳定性;此外,该器件可以采用现有常规集成电路制造工艺步骤实现,并且这种器件设计还可以减小器件的横向尺寸,提高电流导通能力。
搜索关键词: 一种 驱动 阳极 辅助 横向 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
1.一种自驱动阳极辅助栅横向绝缘栅双极型晶体管,其特征在于:包括第二导电类型衬底层(1)、绝缘介质层(2)、第二导电类型阴极阱区(3)、重掺杂第一导电类型阴极区(4)、重掺杂第二导电类型阴极区(5)、阴极接触区(6)、栅极接触区(7)、栅极介质层(8)、第一导电类型漂移区(9)、第一导电类型阳极缓冲区(10)、重掺杂第二导电类型阳极区(11)、阳极接触区(12)、重掺杂第一导电类型阳极区(13)、第二导电类型阳极阱区(17)、阳极自驱动栅极介质层(18)和阳极自驱动栅极接触区(19);所述绝缘介质层(2)覆盖于第二导电类型衬底层(1)之上;所述第一导电类型漂移区(9)覆盖于绝缘介质层(2)之上;所述第二导电类型阴极阱区(3)和第一导电类型阳极缓冲区(10)均覆盖于第一导电类型漂移区(9)之上的部分表面;所述第二导电类型阴极阱区(3)和第一导电类型阳极缓冲区(10)分别位于第一导电类型漂移区(9)的两侧;所述第二导电类型阴极阱区(3)和第一导电类型阳极缓冲区(10)均能够向绝缘介质层(2)方向延伸直至与绝缘介质层(2)接触;所述重掺杂第一导电类型阴极区(4)和重掺杂第二导电类型阴极区(5)覆盖于第二导电类型阴极阱区(3)之上的部分表面;所述阴极接触区(6)覆盖于重掺杂第二导电类型阴极区(5)之上,所述阴极接触区(6)还覆盖于重掺杂第一导电类型阴极区(4)之上的部分表面;所述栅极介质层(8)覆盖于第二导电类型阴极阱区(3)之上的部分表面,所述栅极介质层(8)还覆盖于重掺杂第一导电类型阴极区(4)之上的部分表面和第一导电类型漂移区(9)之上的部分表面;所述栅极接触区(7)覆盖于栅极介质层(8)之上;所述重掺杂第二导电类型阳极区(11)和第二导电类型阳极阱区(17)均覆盖于第一导电类型阳极缓冲区(10)之上的部分表面;所述重掺杂第一导电类型阳极区(13)覆盖于第二导电类型阳极阱区(17)之上的部分表面;所述阳极自驱动栅极介质层(18)覆盖于第二导电类型阳极阱区(17)之上的部分表面,所述阳极自驱动栅极介质层(18)还覆盖于重掺杂第一导电类型阳极区(13)之上的部分表面和第一导电类型阳极缓冲区(10)之上的部分表面;所述阳极自驱动栅极接触区(19)覆盖于阳极自驱动栅极介质层(18)之上;所述阳极接触区(12)覆盖于阳极自驱动栅极接触区(19)之上,所述阳极接触区(12)还覆盖于第二导电类型阳极区(11)之上的部分表面和重掺杂第一导电类型阳极区(13)之上的部分表面。
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