[发明专利]等离子体处理方法

摘要

一种等离子体处理方法，在对保持在运输载体的基板进行等离子体处理时，使产品的成品率提高。保持在运输载体的基板的等离子体处理方法包括准备工序，准备运输载体，所述运输载体具备保持片和配置在该保持片的外周部的框架；基板保持工序，将基板粘接到保持片，使运输载体保持基板；以及张力增加工序，使保持片的张力增加。还包括载置工序，在基板保持工序之后，将所述运输载体载置在所述载置台，使基板隔着所述保持片与所述载置台接触；以及等离子体处理工序，在该载置工序之后，对基板实施等离子体处理。此外，张力增加工序包括使保持片收缩的收缩步骤，收缩步骤在准备工序与等离子体处理工序之间进行。

主权项

一种等离子体处理方法，将保持在运输载体的基板载置在等离子体处理装置具备的载置台，并对所述基板进行等离子体处理，所述等离子体处理方法包括：准备工序，准备所述运输载体，所述运输载体具备保持片和配置在所述保持片的外周部的框架；基板保持工序，将所述基板粘接到所述保持片，使所述运输载体保持所述基板；张力增加工序，使所述保持片的张力增加；载置工序，在所述基板保持工序之后，将所述运输载体载置在所述载置台，使所述基板隔着所述保持片与所述载置台接触；以及等离子体处理工序，在所述载置工序之后，对所述基板实施等离子体处理，所述张力增加工序包括使所述保持片收缩的收缩步骤，所述收缩步骤在所述准备工序与所述等离子体处理工序之间进行。