[发明专利]ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED有效
申请号: | 201710093149.2 | 申请日: | 2017-02-21 |
公开(公告)号: | CN106601881B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 叶建东;张彦芳;沈洋;卞岳;任芳芳;朱顺明;汤琨;顾书林 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陈建和 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED,以纳米图形化(PSS)蓝宝石作为外延基底,使用MOCVD方法生长ZnO低温缓冲层和ZnO高温外延层,以ZnO外延层作为高品质导电衬底,后续生长GaN紫外LED外延,LED芯片经剥离和转移后,形成ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED。新型的垂直结构型GaN紫外LED,可降低器件成本,并提高GaN紫外LED的出光效率。形成ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED,剥离工艺简单,成本低,有利于实现柔性衬底的照明工程。 | ||
搜索关键词: | zno 导电 衬底 垂直 结构 gan 紫外 led | ||
【主权项】:
1.ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED,其特征在于,以纳米图形化(PSS)蓝宝石作为外延基底,使用MOCVD方法生长ZnO低温缓冲层和ZnO高温外延层,以ZnO外延层作为高品质导电衬底,后续生长GaN紫外LED外延,LED芯片经剥离和转移后,形成ZnO导电协变衬底垂直结构型GaN紫外LED;ZnO低温缓冲层和ZnO高温外延层均为单晶结构,低温缓冲层厚度为200‑400 nm,高温外延层厚度为2‑4μm;ZnO和GaN具有相似的晶体结构和晶格常数,以ZnO单晶层作为GaN基LED的衬底材料,实现良好的晶格匹配,并减小GaN缓冲层厚度;利用ZnO外延过程中Al的扩散,形成高电导层,从而作为和n型GaN接触的电子传导层,导电性可控;ZnO的介电常数介于GaN和空气之间;利用垂直于ZnO的位错,采用湿法腐蚀形成表面织构的粗糙表面,提高LED的出光效率。
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