[发明专利]具有减少的基于石英的污染物的等离子体增强原子层沉积方法

摘要

本发明涉及具有减少的基于石英的污染物的等离子体增强原子层沉积方法。具体地，公开在基材上执行具有减少的基于石英的污染物的等离子体增强原子层沉积的方法。该方法包含在石英等离子体管中，从供应气体感应地形成基于氢的等离子体，该供应气体主要由氢与氮或者氢、氩与氮组成。氮构成该供应气体的2体积％或更少。该基于氢的等离子体包括一种或多种反应物质。基于氢的等离子体中的一种或多种反应物质被导引至基材从而引起该一种或多种反应物质与基材上的初始膜反应。与在供应气体中未使用氮的情况相比，痕量的氮起减少初始膜中的基于石英的污染物的作用。

主权项

一种执行具有减少的基于石英的污染物的等离子体增强原子层沉积的方法，其包括：使用前体气体在基材上形成初始膜；排除该前体气体；和在石英等离子体管中，由供应气体感应地形成基于氢即基于H的等离子体，该供应气体主要由氢与氮或者氢、氩与氮组成，其中氮构成该供应气体的2体积％或更少，其中该基于氢的等离子体包括一种或多种反应物质；和导引该一种或多种反应物质至该基材从而引起该一种或多种反应物质与该初始膜反应。