[发明专利]一种光罩及其制备方法在审
| 申请号： | 201710097117.X | 申请日： | 2017-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN108459463A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 冯奎;张宏伟;陆道亮;高志攀;李佳园 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟;冯永贞 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光罩及其制备方法。所述光罩包括用于形成目标图案的中心区域和位于所述中心区域外侧的周围区域，所述中心区域和所述周围区域中均设置有遮光的掩膜图案，以作为对准标记。本发明将所述光罩的中心区域和周围区域中形成的所述对准标记均设置为遮光的掩膜，以消除光罩的中心区域和周围区域对准不够准确的问题，以进一步提高通过所述光罩制备得到的器件的性能和良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 中心区域 周围区域 制备 对准标记 遮光 目标图案 掩膜图案 良率 掩膜 对准 | ||
【主权项】：
1.一种光罩，其特征在于，所述光罩包括用于形成目标图案的中心区域和位于所述中心区域外侧的周围区域，所述中心区域和所述周围区域中均设置有遮光的掩膜图案，以作为对准标记。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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