[发明专利]一种基于芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用在审
申请号: | 201710101515.4 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106883386A | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 应磊;赵森;郭婷;杨伟;彭俊彪;曹镛 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种基于芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用。本发明的基于芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物通过Suzuki聚合反应制备得到。该共轭聚合物由于具有较大的共轭长度,芳杂环并茚芴平面性较好,所以有较高的荧光量子产率,有利于提高材料的器件效率;且具有较好的溶解性,适合进行溶液加工和印刷显示,用于有机发光二极管的发光层,基于该聚合物的发光层在制备电致发光器件时不用退火处理,使得制备工艺更简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 芳杂环 单元 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种基于芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物,其特征在于,化学结构式如下:式中,Ar1为六元芳杂环;R为芳基、三苯胺、碳原子数1‑20的直链或支链烷基、卤素、氰基、烷氧基或氟代烷氧基;0≤x≤1;聚合度n=1‑300。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710101515.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。