[发明专利]一种取放装置有效
申请号: | 201710104313.5 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106711079B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 王为新;袁翔;苏浩杰 | 申请(专利权)人: | 爱立发自动化设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/677 |
代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 张坚 |
地址: | 200233 上海市徐汇*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种取放装置,包括转盘,圆周阵列固定在转盘上的多个竖直驱动机构,每个竖直驱动机构上固定有一个旋转机构,所述旋转机构包括第一部件和第二部件,所述第一部件同轴设置在第二部件上方且二者能够彼此相对转动,彼此相对的第一部件的下端面和第二部件的上端面之间具有间隔,所述第一部件的下端面周向阵列有上磁块;第二部件的上端面周向阵列有下磁块,所述第一部件上设有间隔分布的两个止挡件,所述第二部件上具有位于两个止挡件之间、能够被两个所述止挡件交替止挡的凸起件。本发明的旋转机构第一部件和第二部件之间没有电机或者弹簧之类的施力实体,具有体积小、结构简单的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
【主权项】:
一种取放装置,包括转盘,圆周阵列固定在转盘上的多个竖直驱动机构,每个竖直驱动机构上固定有一个旋转机构,旋转机构下方连接有吸盘,其特征在于:所述旋转机构包括第一部件和第二部件,所述第一部件同轴设置在第二部件上方且二者能够彼此相对转动,彼此相对的第一部件的下端面和第二部件的上端面之间具有间隔,所述第一部件的下端面周向阵列有上磁块;第二部件的上端面周向阵列有下磁块,相邻上磁块位于同一面的极性相反,相邻下磁块位于同一面的极性也相反,所述第一部件上设有间隔分布的两个止挡件,所述第二部件上具有位于两个止挡件之间、能够被两个所述止挡件交替止挡的凸起件,所述第二部件的轴的上端连接有位于所述第一部件上方的受力部,所述受力部的侧面具有弧形凹陷部,所述第二部件的下端面连接有吸盘,所述转盘其中一个工位的上方还固定有一根挡杆,所述挡杆的下端头位置正好位于弧形凹陷部的运动路径上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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