[发明专利]一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法有效
申请号: | 201710105242.0 | 申请日: | 2017-02-26 |
公开(公告)号: | CN106935513B | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 潘宏程;汤红园 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | H01L21/368 | 分类号: | H01L21/368;H01L21/38;H01L21/02;H01L21/66 |
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地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法。利用电沉积的方法将PbTe沉积在电极表面,形成一种载体薄膜,把电极浸入0.1mol/L的NaNO3溶液中,再利用电化学方法氧化电极,最后取出电极,电极上就氧化出Te/PbTe异质结纳米薄膜。本发明方法制备过程非常高效简单,且所制得的Te/PbTe异质结纳米薄膜相比PbTe纳米薄膜具有更高的光电转换效率,成本低廉,易于大规模推广生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 te pbte 异质结 纳米 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法,其特征在于具体步骤为:(1)将事先裁好的氧化铟锡导电玻璃电极依次用分析纯丙酮、分析纯乙醇和二次水各超声清洗5 min,最后空气干燥后制得基体电极;(2)量取9ml浓度为0.1mol/L的H2SO4溶液,置于20 mL烧杯中建立三电极体系,其中步骤(1)制得的基体电极作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用恒电位法进行还原,电位设为‑0.95V,时间为30s,还原结束后,取出工作电极,其表面有还原析出的In2O3薄层,制得In2O3薄层基片;(3)依次量取1mL浓度为0.2 mol/L的Pb(NO3)2溶液、1mL浓度为0.2 mol/L的EDTA溶液、4mL浓度为0.04mol/L的TeO2溶液和4mL浓度为1.25 mol/L的Na2SO4溶液一起置于20 mL烧杯中混合均匀,配制得到电沉积PbTe薄膜底液;(4)在步骤(3)配制的电沉积PbTe薄膜底液中建立三电极体系,其中,步骤(2)制得的In2O3薄层基片作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用循环伏安法进行电沉积,扫描范围为‑1~0V,扫描速度为0.05V/s,扫描段数为20~30段,沉积结束后,取出工作电极,其表面上就沉积出PbTe薄膜,制得PbTe薄膜基片;(5)量取9mL浓度为0.1mol/L的NaNO3溶液,置于20 mL烧杯中,把步骤(4)制得的PbTe薄膜基片作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用循环伏安法进行氧化处理,扫描范围为0~1V,扫描速度为0.1V/s,扫描段数为6~20段,氧化结束后,取出工作电极,其表面上就得到Te/PbTe薄膜,即制得Te/PbTe异质结纳米薄膜。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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