[发明专利]一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710105242.0 申请日: 2017-02-26
公开(公告)号: CN106935513B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 潘宏程;汤红园 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: H01L21/368 分类号: H01L21/368;H01L21/38;H01L21/02;H01L21/66
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法。利用电沉积的方法将PbTe沉积在电极表面,形成一种载体薄膜,把电极浸入0.1mol/L的NaNO3溶液中,再利用电化学方法氧化电极,最后取出电极,电极上就氧化出Te/PbTe异质结纳米薄膜。本发明方法制备过程非常高效简单,且所制得的Te/PbTe异质结纳米薄膜相比PbTe纳米薄膜具有更高的光电转换效率,成本低廉,易于大规模推广生产。
搜索关键词: 一种 te pbte 异质结 纳米 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种Te/PbTe异质结纳米薄膜的制备方法,其特征在于具体步骤为:(1)将事先裁好的氧化铟锡导电玻璃电极依次用分析纯丙酮、分析纯乙醇和二次水各超声清洗5 min,最后空气干燥后制得基体电极;(2)量取9ml浓度为0.1mol/L的H2SO4溶液,置于20 mL烧杯中建立三电极体系,其中步骤(1)制得的基体电极作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用恒电位法进行还原,电位设为‑0.95V,时间为30s,还原结束后,取出工作电极,其表面有还原析出的In2O3薄层,制得In2O3薄层基片;(3)依次量取1mL浓度为0.2 mol/L的Pb(NO3)2溶液、1mL浓度为0.2 mol/L的EDTA溶液、4mL浓度为0.04mol/L的TeO2溶液和4mL浓度为1.25 mol/L的Na2SO4溶液一起置于20 mL烧杯中混合均匀,配制得到电沉积PbTe薄膜底液;(4)在步骤(3)配制的电沉积PbTe薄膜底液中建立三电极体系,其中,步骤(2)制得的In2O3薄层基片作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用循环伏安法进行电沉积,扫描范围为‑1~0V,扫描速度为0.05V/s,扫描段数为20~30段,沉积结束后,取出工作电极,其表面上就沉积出PbTe薄膜,制得PbTe薄膜基片;(5)量取9mL浓度为0.1mol/L的NaNO3溶液,置于20 mL烧杯中,把步骤(4)制得的PbTe薄膜基片作为工作电极,Ag/AgCl为参比电极,Pt为辅助电极,用循环伏安法进行氧化处理,扫描范围为0~1V,扫描速度为0.1V/s,扫描段数为6~20段,氧化结束后,取出工作电极,其表面上就得到Te/PbTe薄膜,即制得Te/PbTe异质结纳米薄膜。
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