[发明专利]一种铁磁半导体材料的单晶生长方法有效

专利信息
申请号: 201710106168.4 申请日: 2017-02-27
公开(公告)号: CN108505109B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 靳常青;赵国强;邓正 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: C30B9/12 分类号: C30B9/12;C30B29/10;H01F1/40;H01F41/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅;赵岩
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种铁磁半导体材料的单晶生长方法,所述铁磁半导体材料的化学式为(Ba1‑xKx)(Zn1‑yMny)2As2,0x0.5,0y0.5,所述方法包括:在加热条件下使用助熔剂法生长单晶,其中所述助熔剂为ZnAs和MnAs。本发明的方法能够生长大尺寸、高质量的(Ba,K)(Zn,Mn)2As2的单晶,对其物理机制研究和将来的实际应用都有着及其重要的作用。
搜索关键词: 一种 半导体材料 生长 方法
【主权项】:
1.一种铁磁半导体材料的单晶生长方法,所述铁磁半导体材料的化学式为(Ba1‑xKx)(Zn1‑yMny)2As2,0
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