[发明专利]用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201710107300.3 | 申请日： | 2017-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN106935463B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 廖鹏宇;蒋冬华;赵吾阳;姜龙;宋亮;谭超;彭于航;谢贤虹 | 申请（专利权）人： | 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/20;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于干法刻蚀的承载装置和干法刻蚀设备，包括相对设置的上部电极和下部电极，以及设置于所述下部电极上面向所述上部电极的一面的待刻蚀基板，所述下部电极的面积不小于待刻蚀基板的面积。本发明的有益效果是：增大了基板的有效使用面积，提升基板边缘刻蚀率的有效性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 刻蚀 承载 装置 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于干法刻蚀的承载装置，包括相对设置的上部电极和下部电极，以及设置于所述下部电极上面向所述上部电极的一面的待刻蚀基板，其特征在于，所述下部电极的面积不小于待刻蚀基板的面积；还包括在所述下部电极的面积大于待刻蚀基板的面积时、围设于待刻蚀基板四周的边框，所述边框包括完全覆盖于所述下部电极未承载待刻蚀基板的区域的第一部分；所述边框还包括覆盖待刻蚀基板边缘区域的第二部分；还包括用于控制所述边框升降的升降结构，所述边框还包括外露于所述下部电极的第三部分，所述升降结构包括：升降部，能够与所述第三部分连接；驱动部，用于驱动所述升降部在第一状态和第二状态之间转换；所述第一状态为所述升降部在所述驱动部的驱动下与所述第三部分连接并带动所述边框升降；所述第二状态为在所述边框与所述下部电极接触或所述边框与所述基板边缘区域接触后、所述升降部继续下降以与所述第三部分分离。
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