[发明专利]一种位移测量系统以及曝光设备有效
| 申请号： | 201710114465.3 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN108508706B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 陈南曙;张金贵 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种位移测量系统以及曝光设备，该位移测量系统包括安装在运动台下表面的位移传感器、设在运动台下方的目标平面光栅以及信号处理单元，目标平面光栅为反射光栅，所述位移传感器发射光束至所述目标平面光栅，并接收经所述目标平面光栅反射的光束，所述信号处理单元接收位移传感器发送的信号后计算所述运动台相对所述目标平面光栅的位移，再结合所述主基板所在的目标物坐标系与所述目标平面光栅所在的运动台坐标系之间的位置关系计算所述运动台相对所述目标物的位移。本发明采用物镜、运动台、目标平面光栅的布局方式，目标平面光栅不会引入由拼接造成的测量误差，且易于制造；物镜与运动台之间的空间未被占用，可安装更多类型的传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 位移 测量 系统 以及 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种位移测量系统，用于测量一运动台相对一目标物的位移，所述目标物通过一主基板固定在所述运动台上方，其特征在于，包括安装在所述运动台下表面的位移传感器、设在所述运动台下方的目标平面光栅以及信号处理单元，所述目标平面光栅为反射光栅，所述位移传感器发射光束至所述目标平面光栅，并接收经所述目标平面光栅反射的光束，所述信号处理单元接收所述位移传感器发送的信号后计算所述运动台相对所述目标平面光栅的位移，再结合所述主基板所在的目标物坐标系与所述目标平面光栅所在的运动台坐标系之间的位置关系计算所述运动台相对所述目标物的位移。
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