[发明专利]圆柱面磁控溅射装置在审
| 申请号： | 201710114566.0 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN106676491A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 徐大林;李新化;史同飞;王玉琦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙)34118 | 代理人： | 任岗生 |
| 地址： | 230031 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种圆柱面磁控溅射装置。它包括同轴心置于管状衬底(5)中的圆柱阴极靶(4)，连通管状衬底(5)的进气管(8)和排气管(6)，以及与管状衬底(5)和圆柱阴极靶(4)电连接的等离子体激发电源(11)，特别是管状衬底(5)经绝缘座(9)与端部法兰(1)固定连接，圆柱阴极靶(4)经卡套(2)与端部法兰(1)密封连接，圆柱阴极靶(4)的两端与励磁电源(13)电连接。它的结构简单、体积小、制造成本低，安装便捷、使用方便、适用性好，圆柱状沉积层的均匀度高，极易于广泛地应用于圆柱状狭小空间内的磁控溅射沉积层。 | ||
| 搜索关键词： | 圆柱面 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种圆柱面磁控溅射装置，包括同轴心置于管状衬底(5)中的圆柱阴极靶(4)，连通管状衬底(5)的进气管(8)和排气管(6)，以及与管状衬底(5)和圆柱阴极靶(4)电连接的等离子体激发电源(11)，其特征在于：所述管状衬底(5)经绝缘座(9)与端部法兰(1)固定连接；所述圆柱阴极靶(4)经卡套(2)与端部法兰(1)密封连接；所述圆柱阴极靶(4)的两端与励磁电源(13)电连接。
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