[发明专利]一种柔性衬底上大面积金属纳米针尖阵列的制备方法有效
| 申请号： | 201710115318.8 | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN106809802B | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 孟秋实;郭进;曹国威;周杰;王俊 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 王志兴 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种柔性衬底上大面积金属纳米针尖阵列的制备方法，包括如下步骤：(1)在硅片衬底上蒸镀金属铬薄膜，旋涂光刻胶；(2)使用曝光‑显影‑定影工艺制备具有孔洞阵列的光刻胶图案；(3)用硝酸铈铵去除没有光刻胶图案保护的金属铬薄膜，暴露底部的硅衬底表面；(4)对硅片样品用碱溶液刻蚀，得到倒金字塔形的硅孔洞阵列；(5)在样品表面沉积金属薄膜，使用胶带粘去硅片表面的铬金属层以及沉积的金属薄膜；(6)用柔性软模材料浇筑硅片表面，再用碱溶液腐蚀样品，最后得到柔性衬底上的大规模金属纳米针尖阵列。本发明的优点在于：提供了一种大规模、低成本、性能良好的的柔性衬底上大面积金属纳米针尖阵列的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 衬底 大面积 金属 纳米 针尖 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种柔性衬底上金属纳米针尖阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在干净的硅片衬底上蒸镀金属铬薄膜，并旋涂光刻胶；其中，硅片衬底为表面晶向为[100]的硅片，光刻胶为电子束光刻胶或深紫外光刻胶，光刻胶旋涂的转速为2000‑6000rpm；(2)使用曝光‑显影‑定影工艺在步骤(1)得到的样品上制备具有孔洞阵列的光刻胶图案；(3)使用0.1‑0.5g/mL硝酸铈铵溶液刻蚀去除步骤(2)中得到的没有光刻胶图案保护的金属铬薄膜，形成铬金属掩膜层，其孔洞区域暴露底部的硅衬底表面；(4)对步骤(3)得到的覆盖有铬金属掩膜层的硅片样品用20％‑50％的氢氧化钾或氢氧化钠溶液进行刻蚀，刻蚀温度为20‑100℃，得到倒金字塔形的硅孔洞阵列；(5)在步骤(4)得到的样品表面沉积金属薄膜，并使用胶带粘去硅片表面的铬金属层以及新沉积的金属薄膜；(6)用柔性软模材料浇筑在步骤(5)得到的硅片表面，待其固化成型，再用碱溶液腐蚀样品，使柔性软模材料脱模，最后得到柔性衬底上的金属纳米针尖阵列。
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