[发明专利]图像处理装置、图像处理方法以及记录介质在审

专利信息
申请号: 201710116630.9 申请日: 2017-03-01
公开(公告)号: CN107229056A 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 松井修平 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: G01S17/89 分类号: G01S17/89;G01C3/06;H04N5/238
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 徐健,段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供图像处理装置、图像处理方法及记录介质。图像处理装置具备对对象物在不同定时发出第1和第2发光量的第1和第2光的发光部;以第1和第2曝光时间接受第1和第2反射光的受光传感器,第1与第2发光量和第1与第2曝光时间的至少某一方不同;处理器,算出表示第1相位差,生成第1距离图像,生成表现接受到第1反射光时的受光强度的第1强度图像,算出第2相位差,生成第2距离图像,生成表现接受到第2反射光时的受光强度的第2强度图像,比较与第1强度图像的各像素对应的各受光强度和与第2强度图像的各像素对应的各受光强度,基于比较结果选择第1距离图像的各像素和第2距离图像的各像素的某一方,使用各选择的像素生成合成距离图像。
搜索关键词: 图像 处理 装置 方法 以及 记录 介质
【主权项】:
一种图像处理装置,具备:发光部,其对位于所述图像处理装置的拍摄视角内的对象物,在不同的定时发出第1光和第2光,所述第1光被以第1发光量发出,所述第2光被以第2发光量发出;受光传感器,其接受所述第1光被所述对象物反射后的第1反射光和所述第2光被所述对象物反射后的第2反射光,所述第1反射光被以第1曝光时间来接受,所述第2反射光被以第2曝光时间来接受,所述第1发光量与所述第2发光量和所述第1曝光时间与所述第2曝光时间的至少某一方不同;以及处理器,所述处理器,算出表示所述第1光与所述第1反射光的相位差的第1相位差,使用所述第1相位差来生成第1距离图像,所述第1距离图像表现从所述图像处理装置到所述对象物的距离,生成第1强度图像,所述第1强度图像按所述第1距离图像的每个像素表现所述受光传感器接受到所述第1反射光时的受光强度,算出表示所述第2光与所述第2反射光的相位差的第2相位差,使用所述第2相位差来生成第2距离图像,所述第2距离图像表现从所述图像处理装置到所述对象物的距离,生成第2强度图像,所述第2强度图像按所述第2距离图像的每个像素表现所述受光传感器接受到所述第2反射光时的受光强度,对与所述第1强度图像的各像素对应的各受光强度和与所述第2强度图像的各像素对应的各受光强度进行比较,基于所述比较结果,选择所述第1距离图像的各像素和对应的所述第2距离图像的各像素的某一方,使用各选择出的像素来生成合成距离图像。
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