[发明专利]盘装置及盘装置的制造方法有效
申请号: | 201710123937.1 | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN107799130B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 冈本真;佐佐木康贵 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/48 | 分类号: | G11B5/48;B23K26/21 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张轶楠;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本公开涉及盘装置及盘装置的制造方法。根据实施方式,盘装置具备:能够旋转的盘状的记录介质;对记录介质处理数据的头;以及具备基体和盖、并且在内部封入有密度比空气低的低密度气体的壳体,所述基体收纳了记录介质和头,所述盖具有被激光焊接到所述基体的焊接部。盖的焊接部包括在第1激光照射条件下焊接而成的第1焊接部和在与所述第1激光照射条件不同的第2激光照射条件下焊接而成的第2焊接部。 | ||
搜索关键词: | 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种盘装置,具备:能够旋转的盘状的记录介质;对所述记录介质处理数据的头;以及壳体,其具备基体和盖,并且在其内部封入有密度比空气低的低密度气体,所述基体收纳所述记录介质和头,所述盖具有被激光焊接到所述基体的焊接部,所述基体设置有具有第1区域和第2区域的肋,该第1区域具有第1宽度,该第2区域具有比第1宽度窄的第2宽度,所述焊接部包括:以第1激光照射条件被焊接于所述第1区域而成的第1焊接部和以与所述第1激光照射条件不同的第2激光照射条件被焊接于所述第2区域而成的第2焊接部,所述第2区域的熔融量比所述第1区域的熔融量少。
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