[发明专利]三维超材料阵列的大规模喷墨打印方法有效

专利信息
申请号: 201710127141.3 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN106904002B 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 张晓阳;张彤;徐佳佳;苏丹 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: B41J2/175 分类号: B41J2/175;B41J2/01;B41J29/393
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 李晓
地址: 210096 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种三维超材料阵列的大规模喷墨打印方法,通过设计M×N喷嘴阵列的通用喷头和特定拓扑结构的专用喷头,将图形信息直接由喷嘴阵列快速“印制”到衬底上,得以快速、方便地得到大规模纳米结构阵列。并且通过精确控制位移台移动,可控制纳米结构的尺寸、形貌特征,包括立体、倾斜、弯曲、螺旋、异质结构等。利用这种喷墨打印方法,可以制备多种复杂拓扑结构阵列。且适用于多种材料和衬底,广泛应用于不同器件的需求领域。
搜索关键词: 三维 材料 阵列 大规模 喷墨 打印 方法
【主权项】:
一种三维超材料阵列的大规模喷墨打印方法,其特征在于包括以下步骤:步骤1,配制适合喷墨打印的纳米油墨;步骤2,设计所需纳米结构阵列图形,设置打印参数,并将步骤1得到的纳米油墨灌装进对应墨盒中;步骤3,喷墨打印,注射泵产生气压,通过气管给每组墨盒和喷嘴供气;衬底接地,将经过表面处理的衬底放置在位移台上、正对喷头下方;接通电源,喷嘴产生墨滴,沉积在衬底上;同时位移台加热,设置温度低于所用纳米材料的熔点,连续打印得到相应拓扑结构的纳米结构阵列;步骤4,单个阵列单元打印结束后,移动位移台,喷嘴在衬底的其他位置继续打印;如此重复,最终得到大规模的纳米结构阵列;其中,所述喷嘴组成通用喷头和专用喷头,通用喷头中的M×N个喷嘴呈矩阵排列,1≤M,N≤100;专用喷头的喷嘴阵列形成所需的拓扑结构;使用通用喷头打印立体拓扑结构图形阵列时,通用喷头的每个喷嘴单独控制喷墨,衬底不移动,单个喷嘴重复在上一个墨点上打印得到单根立体纳米线;纳米线的直径等于墨点尺寸,软件程序设定对多个喷嘴加电压,工作的喷嘴阵列共同形成特定图形,打印得到所需的三维超材料阵列单元;使用专用喷头打印立体拓扑结构图形阵列时,直接打印得到与之匹配的三维超材料阵列图形单元;移动衬底,在衬底其他区域进行打印,得到另一个单元;操作多次,得到大面积周期性结构。
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