[发明专利]氚含量测量装置及方法在审

专利信息
申请号: 201710127215.3 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN106970410A 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 张志;文明;陈克琳;陈立豪;周帅;姜飞;杨雷;胡俊 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院材料研究所
主分类号: G01T1/167 分类号: G01T1/167;G01T1/26
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 毕翔宇
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及放射性物质含量测量技术领域,旨在解决现有技术中氚含量测量装置测量结果精度较低问题,提供一种氚含量测量装置,其包括样品单元和对照单元。样品单元从外到内依次包括第一温控室、第一测量结构和样品室。对照单元从外到内依次包括第二温控室、第二测量结构和对照室,第二温控室与第一温控室结构相同,对照室位于第二温控室中;第二温控室和对照室之间设有用于测量对照室向第二温控室的热辐射热功率的第二测量结构。样品室中还设有第一校核热源,对照室中还设有第二校核热源,第一校核热源和第二校核热源均为能够调节放热功率的热源。本发明还涉及一种基于上述测量装置的氚含量测量方法。本发明的有益效果是测量结果精度较高。
搜索关键词: 含量 测量 装置 方法
【主权项】:
一种氚含量测量装置,其特征在于:所述氚含量测量装置包括样品单元和对照单元;所述样品单元包括第一温控室和用于存放待测含氚样品的样品室,所述样品室设置于所述第一温控室中;所述第一温控室和所述样品室之间设有用于测量所述样品室向所述第一温控室的热辐射热功率的第一测量结构;所述对照单元包括第二温控室和对照室,所述第二温控室与所述第一温控室结构相同,所述对照室位于所述第二温控室中;所述第二温控室和所述对照室之间设有用于测量所述对照室向所述第二温控室的热辐射热功率的第二测量结构;所述样品室中还设有第一校核热源,所述对照室中还设有第二校核热源,所述第一校核热源和所述第二校核热源均为能够调节放热功率的热源。
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