[发明专利]一种基于相位纵向拼接的宽光谱干涉形貌检测方法

摘要

本发明是一种基于相位纵向拼接的宽光谱干涉形貌检测方法，利用Mirau型白光干涉系统，通过压电陶瓷精密移动台控制干涉物镜纵向扫描移动，将采集得到的一系列宽光谱干涉图进行保存。通过频域和时域算法，将所采集到的干涉图像进行计算得到调制度分布和包裹相位分布。通过设置一个合理的调制度阈值，根据每个像素点调制度的大小来判断是否对该点进行相位展开。再利用相邻两幅图共同的有效区域来实现相位纵向拼接，最后通过一系列干涉图拼接，得到整场被测形貌的绝对相位分布，从而完成表面形貌恢复。本方法具有测量精度高，受扫描移动精度影响小，特别是针对高纵深微纳结构检测，具有测量速度快，实用性强等特点。

主权项

一种基于相位纵向拼接的宽光谱干涉形貌检测方法，其特征是：测量过程中，通过白光光源入射到光学成像系统，透过Mirau干涉物镜使光线分为两束，一束反射到参考镜面，另一束透射到被测物体表面，最后两束光线发生干涉并通过CCD(Charge‑coupled device)采集干涉图，利用压电陶瓷控制Mirau干涉物镜纵向扫描移动，将CCD采集得到的一系列干涉图进行保存，通过频域和时域算法，将所采集到的干涉图像进行计算得到调制度分布和包裹相位分布，根据调制度大小阈值来判断相应像素点是否相位展开，再利用相邻两幅图共同的有效区域来实现相位纵向拼接，最后通过一系列干涉图拼接，得到整场被测形貌的绝对相位分布，从而完成表面形貌恢复。