[发明专利]基板清洗装置有效
申请号: | 201710128384.9 | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN107221491B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 天野嘉文;伊藤优树;久留巢健人 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;B08B1/00;B08B3/04;B08B3/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种在将多个不同种类的清洗液向刷子供给的情况下、也能够进行良好的清洗处理的基板清洗装置。实施方式的基板清洗装置具备基板保持部、刷子、臂、喷出部以及引导构件。基板保持部将基板保持成可旋转。刷子具有:主体部;清洗体,其设置于主体部的下部,能够被按压于基板;空心部,其形成于主体部,上下两端开口。臂借助主轴将刷子的主体部支承成可旋转。喷出部设置于臂,可对多个种类的处理液进行切换而喷出。引导构件配置于喷出部与刷子之间,暂且接收从喷出部喷出来的处理液并向刷子的空心部引导。 | ||
搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种基板清洗装置,其特征在于,该基板清洗装置具备:基板保持部,其将基板保持成能够旋转;刷子,其具有:主体部;清洗体,其设置于所述主体部的下部,能够被按压于所述基板;空心部,其形成于所述主体部,上下两端开口;臂,其借助主轴将所述刷子的主体部支承成能够旋转;喷出部,其设置于所述臂,与多个种类的处理液供给源连接;引导构件,其配置于所述喷出部与所述刷子之间,对从所述喷出部喷出来的所述处理液暂且进行接收并向所述刷子的空心部引导。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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