[发明专利]实现激光直接成像图形均匀性的方法有效
申请号: | 201710131474.3 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN106990676B | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 尤鑫 | 申请(专利权)人: | 无锡影速半导体科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新吴区太湖*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种方法,尤其是一种实现激光直接成像图形均匀性的方法,属于激光直接成像的技术领域。本发明对数字微镜装置DMD一行像素点进行切分,得到若干等分区域,每个等分区域具有一个控制参数,在利用数字微镜装置DMD进行曝光时,测量整个曝光图形的线宽以及每个等分区域对应图形的线宽,从而能得到图形目标线宽以及补偿调整值,FPGA根据图形目标线宽以及补偿调整值,调整相应等分区域的控制参数,从而使得数字微镜装置DMD再次扫描曝光得到整个曝光图形的线宽与图形目标线宽相一致,安全可靠。 | ||
搜索关键词: | 实现 激光 直接 成像 图形 均匀 方法 | ||
【主权项】:
1.一种实现激光直接成像图形均匀性的方法,其特征是,所述方法包括如下步骤:步骤1、利用FPGA将数字微镜装置DMD的一行像素点切分成若干等份,以得到若干等分区域,每个等分区域扫描的行数以及曝光能量可调;步骤2、FPGA利用上述数字微镜装置DMD进行扫描曝光,以得到曝光图形;步骤3、测量得到上述整个曝光图形的线宽以及每个等分区域扫描曝光图形对应的线宽,根据测量得到整个曝光图形的线宽确定图形目标线宽,并根据确定的图形目标线宽得到每个等分区域扫描曝光图形的补偿调整值;步骤4、FPGA根据每个等分区域扫描曝光图像的补偿调整值调整相应等分区域的扫描行数,以使得在所述调整相应等分区域的扫描行数后,数字微镜装置DMD扫描曝光得到整个曝光图形的线宽与图形目标线宽相一致。
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