[发明专利]实现激光直接成像图形均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 201710131474.3 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN106990676B 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 尤鑫 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅
地址: 214135 江苏省无锡市新吴区太湖*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种方法,尤其是一种实现激光直接成像图形均匀性的方法,属于激光直接成像的技术领域。本发明对数字微镜装置DMD一行像素点进行切分,得到若干等分区域,每个等分区域具有一个控制参数,在利用数字微镜装置DMD进行曝光时,测量整个曝光图形的线宽以及每个等分区域对应图形的线宽,从而能得到图形目标线宽以及补偿调整值,FPGA根据图形目标线宽以及补偿调整值,调整相应等分区域的控制参数,从而使得数字微镜装置DMD再次扫描曝光得到整个曝光图形的线宽与图形目标线宽相一致,安全可靠。
搜索关键词: 实现 激光 直接 成像 图形 均匀 方法
【主权项】:
1.一种实现激光直接成像图形均匀性的方法,其特征是,所述方法包括如下步骤:步骤1、利用FPGA将数字微镜装置DMD的一行像素点切分成若干等份,以得到若干等分区域,每个等分区域扫描的行数以及曝光能量可调;步骤2、FPGA利用上述数字微镜装置DMD进行扫描曝光,以得到曝光图形;步骤3、测量得到上述整个曝光图形的线宽以及每个等分区域扫描曝光图形对应的线宽,根据测量得到整个曝光图形的线宽确定图形目标线宽,并根据确定的图形目标线宽得到每个等分区域扫描曝光图形的补偿调整值;步骤4、FPGA根据每个等分区域扫描曝光图像的补偿调整值调整相应等分区域的扫描行数,以使得在所述调整相应等分区域的扫描行数后,数字微镜装置DMD扫描曝光得到整个曝光图形的线宽与图形目标线宽相一致。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡影速半导体科技有限公司,未经无锡影速半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710131474.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top