[发明专利]激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法在审

专利信息
申请号: 201710131483.2 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN106909029A 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 李显杰 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 殷红梅
地址: 214135 江苏省无锡市新吴区太湖*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法,其包括曝光成像平台以及位于所述曝光成像平台正上方的曝光光路;还包括用于驱动曝光成像平台竖直升降的平台升降机构,所述平台升降机构驱动曝光成像平台竖直升降时,能使得置于曝光成像平台上PCB板的上表面位于曝光光路的成像焦面上。本发明通过平台升降机构实现曝光成像平台的整体升降,从而使得曝光成像平台上PCB板的上表面位于曝光光路的成像焦面上,与现有的聚焦相比,简化了曝光光路的光路结构,提高了光路运动时的稳定性,同时也简化了曝光光路的机械结构,降低了机械安装的难度,简化了曝光成像镜筒的聚焦步骤,安全可靠。
搜索关键词: 激光 直接 成像 曝光 移动 聚焦 结构 方法
【主权项】:
一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,包括曝光成像平台(3)以及位于所述曝光成像平台(3)正上方的曝光光路(1);其特征是:还包括用于驱动曝光成像平台(3)竖直升降的平台升降机构(4),所述平台升降机构(4)驱动曝光成像平台(3)竖直升降时,能使得置于曝光成像平台(3)上PCB板(2)的上表面位于曝光光路(1)的成像焦面上。
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