[发明专利]光致抗蚀剂脱除组合物及利用其的电子元件的制造方法有效
申请号: | 201710133367.4 | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN107229191B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 朱翊祯;黄宜琤;陈颐承 | 申请(专利权)人: | 达兴材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 孙梵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供一种光致抗蚀剂脱除组合物,包括一有机溶剂,其结构如以下式I所示: |
||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 脱除 组合 利用 电子元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光致抗蚀剂脱除组合物,包括:有机溶剂,其结构如以下式I所示:其中,R1为烷氧基或烷基,R2、R3、R4、R5、R6为各自独立的氢或氢氧基,且n大于0;胺化合物,其含量为10‑65重量百分比;以及水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于达兴材料股份有限公司,未经达兴材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710133367.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。