[发明专利]利用工业摄影测量法实现天线辐射特性测试的方法在审

专利信息
申请号: 201710133789.1 申请日: 2017-03-08
公开(公告)号: CN106839984A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 卢华强 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十九研究所
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/24;G01R29/10
代理公司: 西北工业大学专利中心61204 代理人: 陈星
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提出一种利用工业摄影测量法实现天线辐射特性测试的方法,首先根据天线设计要求,获得主反射面表面精度及副面、馈源与主反射面的几何关系,建立天线理论几何关系;再将天线理论几何关系导入测量计算机中,建立工业摄影测量基准坐标系;在天线系统电气性能测试完成后,通过工业摄影法拍摄主反射面、副反射面和馈源表面上粘贴的描述各自位置姿态的测量标志点,处理得到主反射面、副反射面与馈源的三维几何关系;将得到的主反射面、副反射面与馈源的三维几何关系,与天线理论几何关系进行比对,如果各项误差小于设计时允许的最大公差,则认为天线辐射特性满足要求。本发明能够大幅度降低成本,提高测试精度,降低人员消耗,提高效率。
搜索关键词: 利用 工业 摄影 测量 实现 天线 辐射 特性 测试 方法
【主权项】:
一种利用工业摄影测量法实现天线辐射特性测试的方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1:根据天线设计要求,获得主反射面表面精度及副面、馈源与主反射面的几何关系,建立天线理论几何关系;步骤2:将天线理论几何关系导入测量计算机中,建立工业摄影测量基准坐标系;在天线系统电气性能测试完成后,通过工业摄影法拍摄主反射面、副反射面和馈源表面上粘贴的描述各自位置姿态的测量标志点,处理得到主反射面、副反射面与馈源的三维几何关系;步骤3:将步骤2得到的主反射面、副反射面与馈源的三维几何关系,与步骤1中的天线理论几何关系进行比对,如果各项误差小于设计时允许的最大公差,则认为天线辐射特性满足要求。
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