[发明专利]一种书法浮雕建模方法有效
申请号: | 201710133858.9 | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN106920281B | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 张玉伟 | 申请(专利权)人: | 齐鲁工业大学 |
主分类号: | G06T17/30 | 分类号: | G06T17/30 |
代理公司: | 济南信达专利事务所有限公司 37100 | 代理人: | 杜鹃花 |
地址: | 250353 山东省济南市长清区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种书法浮雕建模方法,属于书法浮雕建模方法领域,要解决的技术问题为现有浮雕模型中缺乏多样化、高度和截面形状调节受限;其方法包括:S1、将字体网格化:将书法图像中的字体进行三角网格化处理,得到多个封闭的笔画区域,并对每个笔画区域的边界环进行优化;S2、基于法向估计构建均匀高度场:通过谐波传播计算该笔画区域的内部顶点法向,从而将2D笔画区域转换为3D浮雕形式的均匀高度场;S3、基于笔画宽度构建非均匀高度场:通过拉普拉斯增量变换插值内部顶点的高度坐标值,生成非均匀高度场;S4、合成并风格化高度场:非线性压缩混合高度场,生成可调节参数的高度场;S5、通过参数调节,构建多样书法浮雕。 | ||
搜索关键词: | 一种 书法 浮雕 建模 方法 | ||
【主权项】:
1.一种书法浮雕建模方法,其特征在于包括如下步骤:S1、将字体网格化:以单幅书法图像为输入,将书法图像中的字体进行三角网格化处理,得到多个封闭的笔画区域,并对每个笔画区域的边界环进行优化;S2、基于法向估计构建均匀高度场:根据笔画区域的边界顶点法向,通过求解拉普拉斯线性系统插值该笔画区域的内部顶点法向,并通过顶点法向的z分量计算该笔画区域的内部顶点的高度坐标值,从而将2D笔画区域转换为3D浮雕形式的均匀高度场;S3、基于笔画宽度构建非均匀高度场:根据笔画区域的边界顶点的高度坐标值,通过拉普拉斯增量变换插值内部顶点的高度坐标值,生成非均匀高度场;S4、合成并风格化高度场:将均匀高度场和非均匀高度场线性叠加为混合高度场后,非线性压缩混合高度场,生成可调节参数的高度场;S5、通过参数调节,构建多样书法浮雕。
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