[发明专利]一种氮化物半导体发光二极管及其制作方法有效
申请号: | 201710134634.X | 申请日: | 2017-03-08 |
公开(公告)号: | CN106848015B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 郑锦坚;王星河;叶芳;康俊勇 | 申请(专利权)人: | 王星河 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/22;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362343 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明公开了一种氮化物半导体发光二极管及其制作方法,其公开的一种氮化物半导体发光二极管中,在图形化衬底的图形之间具有N个周期的V形坑层和反射层构成的散射反射层,周期N≥1,所述V形坑层的V形坑斜面为(10‑10)晶面,V形坑之间的平面为(0001)面,每一个周期V形坑层的材料为InxGa1‑xN/GaN(0 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化物 半导体 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种氮化物半导体发光二极管,其特征在于:包括图形化衬底、V形坑控制层、在图形化衬底的图形之间至少具有一个周期的V形坑层和反射层构成的散射反射层、缓冲层、第一导电型的第一半导体层、有源发光层和第二导电型的第二半导体层;所述V形坑层的材料为InxGa1‑xN/GaN组合,且0
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