[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质

摘要

本发明提供一种能够抑制缺陷的产生并且能够使用干燥液来使基板表面干燥的基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。在对由基板保持部(31)保持着的旋转的基板(W)的表面供给处理液来进行处理的基板处理装置(16)中，干燥液供给喷嘴(411)向利用处理液进行处理后的旋转的基板的表面供给干燥液，移动机构(41、42、421)使干燥液在基板(W)上的着液点(PA)以从基板(W)的中心部朝向周缘部的朝向移动。控制部(18)进行控制，使得以着液点为基点形成的干燥液的流线中的距离(L)为预先设定的上限距离M以下，其中，该距离(L)是从上述着液点的中心至该干燥液的流线的靠基板的旋转中心侧的端部的距离。

主权项

一种基板处理装置，进行对基板的表面供给处理液之后供给干燥液的处理，该基板处理装置的特征在于，具备：基板保持部，其用于保持基板；旋转机构，其使由所述基板保持部保持着的基板旋转；干燥液供给喷嘴，其对利用所述处理液进行处理后的旋转的基板的表面供给用于使基板干燥的干燥液；移动机构，其使由所述基板保持部保持着的基板与干燥液供给喷嘴相对地移动；流量控制机构，其对从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液的供给流量进行控制；以及控制部，在使着液点以从基板的中心部朝向周缘部的朝向移动时，所述控制部进行控制，以使得以所述着液点为基点形成的干燥液的流线中的距离L为预先设定的上限距离M以下，其中，该着液点是从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液到达基板上的位置，该距离L是从所述着液点的中心至该干燥液的流线的靠基板的旋转中心侧的端部的距离。